李东画出了等效电路图，三下五除二就算出了结温。
他越写越顺……
直到翻到最后那一页的实验题。
刚才李东只是粗略扫了一眼倒没觉得什么，现在仔细一读……
“这题……”
“这是把光刻机的核心难题给脱敏放出来了？”
题目很长，占了整整一页纸。
【某实验小组为探究投影光刻系统的分辨能力，搭建了简化光刻实验装置：采用波长为λ的单色平行光作为曝光光源，通过数值孔径为 na的投影物镜，将掩模上的精细图案投影到涂有光刻胶的晶圆表面，实现芯片图案的转移。
光刻系统的最小分辨线宽（可清晰区分的两条相邻线条的最小间距）遵循瑞利判据：
δ= 0.
61λ/na
其中数值孔径 na = n?
sinθ，n为物镜与晶圆之间介质的折射率，θ为物镜能接收的最大光线的半孔径角。
完成下列问题：】
这题一共三个问题，前两问可能成绩稍微好点的学生就能做出来，甚至都不用学霸。
但是第三题，你说他难吧，确实有奥赛难度，但不是顶尖的那种。
可是他的重点不是解出来，而是怎么解出来才最好。
李东下意识的抬头看了看四周。
此时距离考试结束还有四十分钟，大部分考生都还在抓耳挠腮地对付前面的计算题。
他旁边的那个考生，看着年纪特别小，顶多也就是高一的样子，此刻正咬着笔杆，对着这最后一道题发呆，卷子上大片空白。
“现在的小孩都这么卷了吗？
高一就来参加这种比赛？”
李东心里吐槽了一句，随后收回目光，看向试卷。
前面两问李东提笔就写。
【1.
求该光刻系统的最小分辨线宽δ?】
解：由瑞利判据公式δ= 0.
61λ/na，代入数据λ=436nm，na=0.
35。
δ?
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