.
.
.”
这个时候，杜文涛继续说道。
“还是不行。”
“因为我们拿钝化那一批里标定最好的3个器件做了连续监测。”
“跑完4个小时的重复标定以後，批间散差虽然压了下去，但同一个器件自己临界电流会随时间慢慢的偏移。”
“偏移？”
“对，但并不是随机偏移，而是有一个很慢的趋势性。”
“我们刚做完的时候数据是很漂亮的，过了两个小时再测一次，临界电流就发生偏移了，再过两个小时又偏移了一点，方向还不一样。”
李东站在屏幕前，看着那三条缓慢弯曲的偏移曲线，沉默了好一会。
他最开始以为问题出在图形化工艺後，表面重构引入缺陷态。
如果是这个问题的话，钝化应该是管用。
但现在看来，钝化只能把批间差异压下来。
因为批间差异和表面缺陷的密度有关。
可钝化之後，器件内部那个偏移却一点没变。
不管是偏移的速率，方向，和没做钝化之前几乎是一样。
所以，这个偏移不是缺陷的问题，而是材料本身问题。
现在李东他们用材料是（li?
。
?
fe?
。
?）ohfese， 42k铁硒基。
这个材料从它出生的那天起，就有一个标签始终都甩不掉，那就是亚稳相。
亚稳相意味着晶格并没有处在热力学意义上最低能态。
而是被动力学困在了一个局域极小的值里
如果是在10 mk工作温度下，热激活是可以忽略掉的，但量子隧穿不能忽略。
晶格中某些原子占位在极缓慢的弛豫，这样就带着整个电子的结构一起微微的偏移了。
所以这不是工艺的问题，是材料的问题。
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